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超越摩尔定律:半导体集成电路工业晶体生长技术综述及未来面临的挑战
原文作者:CnTech 发布时间: 2016-05-11 14:28:22 新闻来源: CnTech
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超越摩尔定律:半导体集成电路工业晶体生长技术综述及未来面临的挑战

上海大学“海外高端专家引智专项”2016国际大师讲坛

演讲题目:

  From Moore’s law towards More-than-Moore: Review and Challenges of Crystal growth technologies for semiconductor IC industry

  超越摩尔定律:半导体集成电路工业晶体生长技术综述及未来面临的挑战

演讲人:FRANCOIS DUPRET教授

演讲人简介:

  Francois Dupret教授是比利时鲁汶大学荣誉教授,国际晶体生长数值模拟领域开拓性学者,著名晶体生长数值模拟软件FEMAG SA研发公司CEO,曾任“晶体生长”期刊(Journal of Crystal Growth,SCI收录期刊)会议论文主编,第二届(IWMCG-2,1997)和第八届(IWMCG-8,2015)国际晶体生长模拟研讨会主席,理论与应用力学国际协会联合主席、流体力学分会主席等;Francois Dupret教授同时也是欧洲材料成型科学协会董事、比利时FNRS研究基金主席团主席;至今出版著作5部,发表期刊论文40余篇,会议论文100余篇,在国际晶体生长及其数值模拟领域享有极高声望。

  本次演讲,Dupret教授将重点总结半导体集成电路工业过去50年遵循摩尔定律快速发展背后的晶体材料生长技术及其数值模拟仿真技术发展历程,并从国际研究前沿的角度分析半导体晶体材料生长工艺及其数值模拟技术的发展方向及其面临的挑战与机遇。

  真诚欢迎您的参加!

  地点:上海大学宝山校区乐乎新楼学海厅

  时间:2016年5月16日 上午10:00 — 11:30

  主办单位:上海大学国际事务处

  承办单位:上海大学材料科学与工程学院